哈西奈德涂膜剂

二硫化硒洗剂

本品主要成分及其化学名称为：氯氟舒松。其化学名称为：21-氯-9-氟-11β，16α，17-三羟基孕甾-4-烯-3，20-二酮环-16，17-与丙酮结合成半缩醛。其结构式为：分子式为：C24H32CIFO5分子量为：454.97

本品每克含主要成份二硫化硒25毫克。辅料为：二氧化钛、甘油、皂土、枸橼酸、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸酯、N.N-油酰甲基硫磺酸盐、十二烷基甜菜碱、十二烷基硫酸钠、二氧化钛、柠檬酸、单硬脂酸甘油脂、硫酸二氢钠、皂土、羊毛脂、甘油、香精、纯化水。

天津金耀药业有限公司

江苏迪赛诺制药有限公司

国药准字H10910061

国药准字H10800003

激素类药，适用于皮肤过敏性炎症的亚急性或慢性阶段，如湿疹、异位性皮炎、接触性皮炎等；非感染性皮肤病，如银屑病、神经性皮炎、结节性瘙痒等。

用于去头屑、防治皮脂溢出、头皮脂溢性皮炎、花斑癣(汗斑)。

涂于患处，每日1～2次。

1.治疗头皮屑和头皮脂溢性皮炎。(1)先用肥皂清洗头发和头皮。(2)取5～10克药液于湿发及头皮上，轻揉至出泡沫。(3)待3～5分钟后，用温水洗净，必要时可重复一次。(4)每周2次，一个疗程2～4周，必要时可重复1个或2个疗程。2.治疗花斑癣。(1)洗净患处。(2)根据病患面积取适量药液涂抹(一般10至30克)。(3)保留10～30分钟后用温水洗净。(4)每周2次，一个疗程2～4周，必要时可重复1个或2个疗程。

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偶可引起接触性皮炎、头发或头皮干燥、头发脱色。

儿童注意事项： 应为面积，短期应用，一旦消退迅速停药，一岁以内儿童尽量不用此药。 妊娠与哺乳期注意事项： 尚无人局部用药致畸作用的研究，妊娠期应慎用。外用经皮吸收大量时可从乳汁排泄，哺乳期慎用。 老人注意事项： 遵医嘱。

激素类药，适用于皮肤过敏性炎症的亚急性或慢性阶段，如湿疹、异位性皮炎、接触性皮炎等；非感染性皮肤病，如银屑病、神经性皮炎、结节性瘙痒等。

用于去头屑、防治皮脂溢出、头皮脂溢性皮炎、花斑癣(汗斑)。

本品为肾上腺皮质激素类药物，局部外用具有抗炎、抗过敏及抗瘙痒作用。

本品具有抗皮脂溢出作用，还具有一定的抗真菌作用。

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1. 避免接触眼睛和其他黏膜；2. 孕妇和哺乳期妇女慎用；3. 过敏体质者慎用；4. 避免与酸性物质接触；5. 储存于阴凉干燥处。