哈西奈德涂膜剂

醋酸地塞米松乳膏

本品主要成分及其化学名称为：氯氟舒松。其化学名称为：21-氯-9-氟-11β，16α，17-三羟基孕甾-4-烯-3，20-二酮环-16，17-与丙酮结合成半缩醛。其结构式为：分子式为：C24H32CIFO5分子量为：454.97

本品主要成份醋酸地塞米松C。

天津金耀药业有限公司

新乡华青药业有限公司

国药准字H10910061

国药准字H20056914

激素类药，适用于皮肤过敏性炎症的亚急性或慢性阶段，如湿疹、异位性皮炎、接触性皮炎等；非感染性皮肤病，如银屑病、神经性皮炎、结节性瘙痒等。

本品主要用于过敏性和自身免疫性炎症性疾病。如局限性瘙痒症，神经性皮炎，接触性皮炎，脂溢性皮炎，慢性湿疹等。

涂于患处，每日1～2次。

涂患处，一日2～3次。

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真菌性或病毒性皮肤病禁用，对本药及其他皮质类固醇过敏者禁用。

儿童注意事项： 应为面积，短期应用，一旦消退迅速停药，一岁以内儿童尽量不用此药。 妊娠与哺乳期注意事项： 尚无人局部用药致畸作用的研究，妊娠期应慎用。外用经皮吸收大量时可从乳汁排泄，哺乳期慎用。 老人注意事项： 遵医嘱。

激素类药，适用于皮肤过敏性炎症的亚急性或慢性阶段，如湿疹、异位性皮炎、接触性皮炎等；非感染性皮肤病，如银屑病、神经性皮炎、结节性瘙痒等。

本品主要用于过敏性和自身免疫性炎症性疾病。如局限性瘙痒症，神经性皮炎，接触性皮炎，脂溢性皮炎，慢性湿疹等。

本品为肾上腺皮质激素类药物，局部外用具有抗炎、抗过敏及抗瘙痒作用。

长期大量使用可继发细菌、真菌感染，局部可发生痤疮、酒渣样皮炎、皮肤萎缩及毛细血管扩张，并可有瘙痒、色素沉着、颜面红斑、创伤愈合障碍等反应。

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1.并发细菌及病毒感染时，应与抗菌药物合用。2.不能长期大面积应用。