哈西奈德溶液

硫酸新霉素软膏

本品主要成份为：哈西奈德（氯氟舒松、哈西缩松）。

本品主要成份为硫酸新霉素。 化学名称:4-氧-(2,6-二氨基-2,6-二脱氧-a-D-吡喃葡糖基)-5-氧-【3-氧-2,6-二氨基-2,6-二脱氧-β-L-艾杜吡喃糖基)-β-D-呋喃核糖基】-2-脱氧-D-链霉胺硫酸盐。 分子式:C23H46N6O13·H2S04

天津市天骄制药有限公司

上海通用药业股份有限公司

国药准字H12020343

国药准字H31022262

接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病、硬化性萎缩性苔藓、扁平苔藓、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

抗生素类药:用于敏感菌所致的皮肤黏膜感染，如脓皮病、化脓性皮肤病、溃疡等有继发感染者。

外涂患处每日早晚各一次。

局部涂擦或包敷患处，一日1-2次。

1.对该药过敏者。2.由细菌、真菌、病毒和寄生虫引起的原发性皮肤病变。3.溃疡性病变。4.痤疮、酒渣鼻。5.眼睑部用药（有引起青光眼的危险）。6.渗出性皮肤病。7.面部不宜应用。

对氨基糖苷类抗生素过敏者禁用。

接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病、硬化性萎缩性苔藓、扁平苔藓、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

抗生素类药:用于敏感菌所致的皮肤黏膜感染，如脓皮病、化脓性皮肤病、溃疡等有继发感染者。

少数患者涂药部位的皮肤发生烧灼感、刺痛、暂时性瘙痒，长期应用可发生皮肤毛细血管扩张（尤其面部）、皮肤萎缩、萎缩纹（青少年易发生）皮肤萎缩后继发紫癜、瘀斑、皮肤脆弱、多毛症、毛囊炎、粟丘疹、皮肤脱色、延缓溃疡愈合，封包法在皮肤皱褶部位容易继发真菌感染。经皮肤吸收多时，可发生全身性不良反应。

(1)在一项研究中，患接触性皮炎或慢性皮肤损害(如郁血皮炎)者有3.7%~60%对局部用20%新霉素、(有碱基浓度为3.5mg/g的硫酸新霉素制品供应发生了过敏。但如涂药于无损的皮肤，且治疗不超过7日，则发生率仅约为1%。可能发生写其他氨基糖苷类抗生素的交义过敏。用20%的新霉素凡王林膏做的斑贴试验，应在48小时及96小时时看结果。 (2)长期局部外用可引起接触性皮炎

大面积大量用药或封包方式可使经皮吸收多，可发生全身反应，尤其是低龄儿童和婴幼儿，出现可逆行柯兴氏征及生长迟缓，突然停药可出现急性肾上腺皮质功能不全。出现局部不耐受现象，应停药并寻找原因。警惕留在皮肤皱褶部位和尿布中的药物可吸收入体内。

(1)交叉过敏，对一种氨基糖苷类抗生素不能耐受者可能对其他氨基糖苷类亦不能耐受 (2)本品局部应用可能引起皮肤过敏，并可导致令后局部应用新霉素时产生过敏反应。新霉素局部应用仍可引起肾毒性或耳毒性，尤其当患者肾功能减退或与其他肾毒性或耳毒性药物合用时。 (3)新霉素软膏局部应用后，完整皮肤很少吸收，但烧伤面、肉芽组织和表皮剥脱的巨大创面则很容易吸收。 (4)新霉素不宜用于全身性感染的治疗。 (5)本品对铜绿假单胞菌无效