哈西奈德溶液

复方克霉唑乳膏

本品主要成份为：哈西奈德（氯氟舒松、哈西缩松）。

本品为复方制剂，每克含克霉唑0.015克、尿素0.15克。

天津市天骄制药有限公司

广州力纯制药有限公司

国药准字H12020343

国药准字H20013256

接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病、硬化性萎缩性苔藓、扁平苔藓、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于真菌病，如手癣、足癣、股癣、体癣及花斑癣。

外涂患处每日早晚各一次。

局部外用。取本品适量，涂于患处，一日2～3次。

1.对该药过敏者。2.由细菌、真菌、病毒和寄生虫引起的原发性皮肤病变。3.溃疡性病变。4.痤疮、酒渣鼻。5.眼睑部用药（有引起青光眼的危险）。6.渗出性皮肤病。7.面部不宜应用。

使用该药物可能导致皮肤刺激、过敏反应、皮疹、瘙痒、灼热感等局部不适。

接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病、硬化性萎缩性苔藓、扁平苔藓、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于真菌病，如手癣、足癣、股癣、体癣及花斑癣。

少数患者涂药部位的皮肤发生烧灼感、刺痛、暂时性瘙痒，长期应用可发生皮肤毛细血管扩张（尤其面部）、皮肤萎缩、萎缩纹（青少年易发生）皮肤萎缩后继发紫癜、瘀斑、皮肤脆弱、多毛症、毛囊炎、粟丘疹、皮肤脱色、延缓溃疡愈合，封包法在皮肤皱褶部位容易继发真菌感染。经皮肤吸收多时，可发生全身性不良反应。

偶见过敏反应，如皮疹、瘙痒等。

大面积大量用药或封包方式可使经皮吸收多，可发生全身反应，尤其是低龄儿童和婴幼儿，出现可逆行柯兴氏征及生长迟缓，突然停药可出现急性肾上腺皮质功能不全。出现局部不耐受现象，应停药并寻找原因。警惕留在皮肤皱褶部位和尿布中的药物可吸收入体内。

使用该药物可能导致皮肤刺激、过敏反应、皮疹、瘙痒、灼热感等局部不适。